Größere Masken bringen bei High-NA-EUV die aktuelle Reticle Size zurück. Intel nutzt ASMLs nächste Scanner-Generation bereits in der Serienfertigung. (Halbleiterfertigung, Intel) Diese Meldung wurde von Golem aggregiert. Wir fassen zusammen und verlinken auf den Original-Artikel – beim Klick verlässt du unsere Seite.