Intel feiert den Durchlauf von über einer Million Wafer durch seine High-NA-EUV-Maschinen von ASML. Größere Fotomasken sollen in Zukunft folgen, denn hier gibt es noch brachliegendes Potenzial bei den Kosten und der Wirtschaftlichkeit. Erst kürzlich hatte Intel dafür unter anderem einen Neubau gestartet.
Diese Meldung wurde von ComputerBase aggregiert. Wir fassen zusammen und verlinken auf den Original-Artikel – beim Klick verlässt du unsere Seite.